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覃思科技_Safematic

覃思科技_Safematic

瑞士Safematic鍍膜儀_電鏡制樣
Tousimis CPDs

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加拿大Dragonfly

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KA Imaging X射線產品

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南京覃思科技有限公司

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TS3000清潔度檢查系統

TS3000清潔度檢查系統

TS3000?清潔度檢查系統:工件表面的清潔度分析檢測作為重要的質量控制手段,已廣泛應用在:汽車零部件、軸承、發動機、汽輪機、 航空、半導體、數據存儲、醫療設備、通訊、精密儀表、光伏、鋰電等行業。TS3000 清潔度圖像分析系統采 用先進的圖像算法,配合掃描臺可快速完成對整張濾紙的掃描成像,可對濾膜上的顆粒污染物進行精確檢測、 識別、分析,并依據標準出具清潔度檢測報告。
ACCUR電動掃描平臺

ACCUR電動掃描平臺

電動載物臺,ACCUR電動掃描平臺 ACCUR 顯微鏡自動平臺組件為顯微鏡自動化操作、大量的顯微鏡圖像分析、顯微鏡遠程控制和其他光學應用而設計制造。ACCUR顯微鏡自動化組件可以適配到大部分現代顯微鏡上,是顯微鏡自動化改造的好選擇。ACCUR顯微鏡電動載物臺驅動使用了安靜且精密的步進電機、精密絲桿和預壓消隙螺母,有效消除了機械耦合間隙,同時采用了交叉滾柱導軌,確保移動平臺定位準確、高重復性且運動平滑。冷軋鋁平臺有良好的剛性和穩定性。大面積試樣臺和大尺寸移動范圍使用戶能安放各種形狀和重量的觀測樣品。
臺式3D相襯增強MicroCT

臺式3D相襯增強MicroCT

KA imaging專業研發和生產的inCiTe?X射線相襯成像顯微鏡系統(臺式MicroCT),適用于科研和工業無損檢測(NDT)等場景,尤其適合探測生物、聚合物等低密度、弱X射線吸收材料。廣泛應用于:?低密度材料;?電子器件;?復合材料;?生物醫學;?寶石;?農業等領域。
高分辨X射線探測器

高分辨X射線探測器

BrillianSe?高分辨X射線探測器具有16M像素,采用直接轉換專有技術,對樣品進行“吸收襯度+相位襯度”成像,大幅度提高樣品中的低密度成分成像時的靈敏度,亦可用于硬x射線包括同步加速器線束。
便攜三能量X射線平板探測器

便攜三能量X射線平板探測器

加拿大KA Imaging出品的Reveal R 35C便攜式平板探測器是三能量探測器,單次曝光可獲三張圖像:傳統DR圖像、低密度圖像和高密度圖像,無運動偽影。平板探測器便攜套裝,專為在充滿挑戰的環境中實現耐用性和可靠性而設計,可在現場提供前所未有的圖像,用于野外或移動式作業。
Chronos系列基于Timepix3的超快探測系統

Chronos系列基于Timepix3的超快探測系統

荷蘭ASI新近推出的Chronos系列基于事件和數據驅動的混合像素高速探測器相機,采用Timepix3芯片技術,具備卓越的性能,包括1.56納秒的時間分辨率,相當于幀基相機的600MHz。該系列相機具有極高的無噪音數據采集速度,每秒可捕獲高達300億次轟擊,可實現原子晶格的特定狀態大場讀出、量子相關性、光子糾纏、大分子成像分析和閃爍體等研究用途。通過和Photonis的Cricket2圖像增強器打包配套,可實現超快速單光子探測。
瑞士Safematic CCU-010 LV_SP-010磁控離子濺射鍍膜儀

瑞士Safematic CCU-010 LV_SP-010磁控離子濺射鍍膜儀

CCU-010 LV_SP-010磁控離子濺射鍍膜儀,是電子顯微鏡中精細顆粒貴金屬鍍膜的理想工具。觸摸屏操控,配方可編程,保證結果可重復;具有斷電時系統自動排氣功能,防止系統被機械泵油污染。標配膜厚監測裝置;主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質量并延長連續運行時間;在對樣品進行鍍膜之前或鍍膜之后,可選對樣品進行等離子刻蝕處理,以增加薄膜的附著力或對膜層表面進行改性。
瑞士Safematic CCU-010 LV_CT-010熱蒸發鍍碳儀

瑞士Safematic CCU-010 LV_CT-010熱蒸發鍍碳儀

CCU-010 LV_CT-010精細真空鍍膜系統專為SEM和EDX的常規高質量鍍碳而設計。緊湊的插入式碳蒸發模塊為鍍碳樹立了新標桿。將該頭插入CCU-010 LV鍍膜主體后,即可立即使用,適合SEM/EDS等需要高質量碳膜應用的場合。
瑞士Safematic CCU-010 LV離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀

瑞士Safematic CCU-010 LV離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀

CCU-010 LV普通真空鍍膜系統專為SEM和EDX的常規高質量濺射鍍膜和鍍碳而設計。它是一款結構緊湊、全自動型的離子濺射和/或蒸發鍍碳設備,使用非常簡便。采用獨特的插入式設計,通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設備。在鍍膜之前和/或之后,可選進行等離子處理。模塊化設計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標配膜厚監測裝置。專有的自動碳源卷送設計–多達數十次碳鍍膜,無需用戶干預。主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質量并延長連續運行時間。
瑞士Safematic CCU-010 HV_SP-010高真空離子濺射鍍膜儀

瑞士Safematic CCU-010 HV_SP-010高真空離子濺射鍍膜儀

CCU-010 HV系列高真空鍍膜系統專為滿足電鏡樣品制備領域及材料科學薄膜應用的最高要求而設計。CCU-010 HV 高真空濺射儀采用優質組件和智能設計,可在超高分辨率應用中提供出色的結果。 標配抽真空系統完全無油,含高性能渦輪泵和前級隔膜泵,均位于內部。標配FTM膜厚監測裝置。主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質量并延長連續運行時間。
瑞士Safematic CCU-010 HV_CT-010高真空熱蒸發鍍碳儀

瑞士Safematic CCU-010 HV_CT-010高真空熱蒸發鍍碳儀

CCU-010 HV_CT-010為一款結構緊湊、全自動型的熱蒸發鍍碳設備,使用非常簡便。采用獨特的插入式設計,變換鍍膜頭非常簡單。在鍍膜之前和/或之后,可以進行等離子處理(可選項)。模塊化設計可輕松避免交叉污染。CCU-010標配膜厚監測裝置。專有的自動卷送碳源設計–多達數十次碳鍍膜,無需用戶干預。
瑞士Safematic CCU-010 HV高真空離子濺射/鍍碳一體化鍍膜儀

瑞士Safematic CCU-010 HV高真空離子濺射/鍍碳一體化鍍膜儀

CCU-010 HV為一款結構緊湊、全自動型的高真空離子濺射和蒸發鍍碳一體化鍍膜儀,使用非常簡便。采用獨特的插入式設計,通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設備。在鍍膜之前和/或之后,可選進行等離子處理。模塊化設計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標配膜厚監測裝置。專有的自動碳源卷送設計–多達數十次碳鍍膜,無需用戶干預。主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質量并延長連續運行時間。
美國Tousimis_SAMDRI-PVT-3D超臨界干燥儀

美國Tousimis_SAMDRI-PVT-3D超臨界干燥儀

美國Tousimis超臨界干燥儀廣泛適用于生物樣品,凝膠等具有微納米3D結構的脆弱復雜樣品,以及MEMS、MOF、碳納米管、石墨烯、半導體晶圓(最大樣品尺寸8英寸,一次同時干燥5片)等材料類樣品的臨界點干燥。利用CO2臨界點狀態無液相表面張力引起樣品皺縮變形的原理獲取具有真實形貌的干燥樣品,是含水或其它液體的細胞組織等生物樣品、半導體等材料樣品干燥制樣的有效方法;具有操作簡便、控制精確、結果可重復等特點。其中,經典的電鏡制樣設備SAMDRI?-PVT-3D型臨界點干燥儀和屢獲殊榮的Autosamdri?-931高級觸摸屏全自動CPD等型號尤其令人矚目。客戶可基于不同的應用選擇不同的型號。
美國Tousimis AUTOSAMDRI-931觸摸屏全自動臨界點干燥儀

美國Tousimis AUTOSAMDRI-931觸摸屏全自動臨界點干燥儀

美國Tousimis超臨界干燥儀廣泛適用于生物樣品,凝膠等具有微納米3D結構的脆弱復雜樣品,以及MEMS、MOF、碳納米管、石墨烯、半導體晶圓(最大樣品尺寸8英寸,一次同時干燥5片)等材料類樣品的臨界點干燥。利用CO2臨界點狀態無液相表面張力引起樣品皺縮變形的原理獲取具有真實形貌的干燥樣品,是含水或其它液體的細胞組織等生物樣品、半導體等材料樣品干燥制樣的有效方法;具有操作簡便、控制精確、結果可重復等特點。Autosamdri-931高級觸摸屏全自動CPD,具有獨特的攪拌方式,加快置換的同時避免樣品擾動,便于維護;采用“Stasis 軟件”,在困難樣品處理過程中可使液態 CO2完全置換乙醇,適用于凝膠和其它復雜樣品的臨界點干燥制備。
美國Tousimis C系列觸摸屏全自動臨界點干燥儀_晶圓專用CPD

美國Tousimis C系列觸摸屏全自動臨界點干燥儀_晶圓專用CPD

美國Tousimis C系列觸摸屏全自動臨界點干燥儀 _晶圓專用CPD(清潔室版本)。C系列為立式(落地式)大型臨界點干燥儀,可在超凈間工作,有3個型號可選: 1)Autosamdri-934,用于不超過4"的晶圓超臨界干燥 2)Automegasamdri-936,用于不超過6"的晶圓超臨界干燥 3)Automegasamdri-938,用于不超過8"的晶圓超臨界干燥
加拿大Dragonfly三維圖像處理和分析軟件

加拿大Dragonfly三維圖像處理和分析軟件

Comet Technologies Canada(原ORS)公司出品的Dragonfly軟件能夠將復雜的微結構快速轉化為全面的研究結果,是當今最具挑戰性的科學和工業2D/3D/4D成像研究的最佳定量分析平臺,廣泛應用于金屬/合金/復合材料等材料科學、細胞/動植物(比如小鼠/昆蟲/木材/根系/竹子)等生物和生命科學、石油地質等地球科學領域。
美國JC Nabity電子束曝光系統(NPGS納米圖形發生器)

美國JC Nabity電子束曝光系統(NPGS納米圖形發生器)

自上世紀八十年代成立以來,美國JC Nabity Lithography Systems公司一直致力于基于商品SEM、STEM或FIB的電子束光刻裝置的研制,其研發的納米圖形發生器系統(Nanometer Pattern Generation System納米圖形發生系統,簡稱NPGS,又稱電子束微影系統)技術在全球同類系統中屬于翹楚之作,世界各地越來越多的用戶包括大學、科研機構及政府實驗室在使用NPGS進行EBL研究工作.
美國PIE_Tergeo等離子清潔儀

美國PIE_Tergeo等離子清潔儀

Tergeo系列臺式全自動等離子清潔儀具有清潔、灰化、刻蝕等功能,可用來清潔納米級樣品,去除光刻膠,清潔晶圓和集成電路鍵合焊盤,進行煤和有機物的灰化,激活聚合物、金屬和陶瓷表面官能團,獲得表面親水性,提高鍵合強度和可印刷性,促進醫療器械生物相容性。可集成浸入式和遠程式兩種等離子源,既可清潔電鏡光闌和TEM樣品桿,也可清潔石墨烯、碳納米管、類金剛石碳和TEM載網多孔碳膜等脆弱的精細樣品。
荷蘭ASI TPX3Cam系列納秒光子時間戳高速探測器

荷蘭ASI TPX3Cam系列納秒光子時間戳高速探測器

荷蘭ASI出品的TPX3Cam是一款用于光學光子時間戳的快速光學相機。它基于一種新型硅像素傳感器,并結合了Timepix3 ASIC和讀出芯片技術,適用于電子、離子或單光子等需要時間分辨成像的各種應用。TPX3Cam可以很容易地集成在桌上型研究裝置中,也可以集成在同步加速器或自由電子激光環境中。TPX3Cam的應用包括飛行時間質譜中離子的空間和速度映射成像; 離子和電子的符合成像,以及其他時間分辨類型的成像光譜。增強版TPX3Cam,通過和Photonis的Cricket2圖像增強器打包配套,可實現超快速單光子探測。應用包括寬視場時間相關單光子計數(TCSPC)成像,磷光壽命成像和任何需要時間分辨單光子成像的應用。
荷蘭M2N顯微學耗材及用品(電鏡耗材)

荷蘭M2N顯微學耗材及用品(電鏡耗材)

M2N電子顯微鏡用品和耗材品種齊全,品質卓越,可靠實用;產品包括載網、支持膜、樣品臺、靶材、載玻片、標樣、鎢燈絲、導電膠膠帶、探針、工器具、存儲容器等等。
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